Figure 5.通过Ti和Hf替代UiO-66中的Zr制备UiO-66(Zr/Ti)和UiO-66(Zr/Hf)(9)后合成交换后合成交换是一种特殊的配位修饰,发改通常是指桥连交换或溶剂辅助连接物交换。
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随着Si嵌入的增加,产业形成硅烯单层和多层。目录投稿以及内容合作可加编辑微信:cailiaokefu。
年本利用插层技术首次构筑了石墨烯/硅烯范德华异质结构。【小结】本项研究表明,发改通过精确控制Si和石墨烯之间的插层过程,可以实现不同类型的石墨烯/硅烯异质结构:硅烯纳米片阵列和硅烯单层和多层。
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